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品質の向上に貢献するプラズマ装置とは

プラズマ装置は電極間に高周波電力を印加してプラズマを発生させ、サンプル表面に付着した微細な汚れを取り除きます。スマートフォンに搭載されている半導体など電子部品は小型化・集積化が進んでおり、表面の汚れを除去するには高度なドライ洗浄の技術が必要とされます。薬液などを使わずに乾いた状態で汚れを取り除くドライ洗浄は、薬液を洗い流すためのリンスや乾燥の工程が不要です。プラズマ装置はドライ洗浄によって効果的にサンプル表面の汚れを取り除くだけでなく、半導体などの品質や生産を高めるのに役立ちます。

減圧されたチャンバーにアルゴン原子を導入する処理方式はRIEモードと呼ばれており、有機物と無機物の両方に対応しています。このタイプのプラズマ装置は、電場によって加速されたアルゴンイオンがサンプルと衝突する際に有機物や無機物を弾き飛ばします。DPモードは減圧されたチャンバーに酸素分子を導入し、電離した酸素原子とサンプル表面の有機化合物との間で化学反応が起きます。このタイプは化学反応を利用する点に特徴があり、有機化合物は二酸化炭素や水分子になります。

半導体や電子デバイスの他にレンズや医療器具などを製造する際には、表面に付着した微細な汚れを除去しなければなりません。微細化が進む半導体など電子材料の分野では、効果的にドライ洗浄を行うことができるプラズマ装置が注目されています。シリコンウエハのレジスト剥離や表面改質、ICパッケージの組立工程における有機物・無機物の除去などを行うためにプラズマ装置は不可欠な存在です。

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